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  1. [VLSI/반도체] Temperature Inversion이란?
14 October 2024

[VLSI/반도체] Temperature Inversion이란?

우선 고체물리역학에서 반도체 개념부터 간단히 요약하고 가겠습니다.

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  1. 온도와 캐리어 이동도(Carrier Mobility)의 관계:

반도체 내에서 전자와 정공의 이동도는 온도에 따라 변합니다. 온도가 올라갈수록 lattice vibration이 증가하여 캐리어의 이동을 방해합니다.

  1. 캐리어 이동도와 저항의 관계:

캐리어 이동도가 감소하면 반도체 내부의 저항이 증가합니다.

  1. 저항과 RC Delay의 관계:

반도체 회로에서 저항과 커패시턴스는 RC Delay를 발생시킵니다.

  1. 온도와 Delay의 관계:

위의 수식들을 종합하면, 온도 상승 → 캐리어 이동도 감소 → 저항 증가 → RC Delay 증가의 관계를 도출할 수 있습니다. 이를 하나의 수식으로 나타내면 다음과 같습니다.

https://www.iiserkol.ac.in/~ph324/StudyMaterials/ResistivityTdep.pdf

이외에도 온도 상승은 문턱 전압(Threshold Voltage) 감소, 누설 전류(Leakage Current) 증가 등의 영향을 미쳐 회로의 성능과 안정성을 떨어뜨릴 수 있습니다.

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그런데, 미세공정으로 들어가다보면, 오히려 온도가 낮아질 때 지연시간이 커지는 특성을 볼 수 있습니다.

이를 Temperature Inversion이라고 부릅니다.

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미세 공정 노드에서는

  1. 온도 상승에 따라 문턱 전압(V_th)이 감소하고, (V_GS - V_th)값이 줄게 됩니다.

  1. 이로 인해 오버드라이브 전압이 증가하여 드레인 전류(I_d)가 증가합니다.

(반면, 과거 공정 기술에서는 오버드라이브 전압의 영향이 상대적으로 작습니다. 최신 공정에서는 VDD 값이 매우 낮다보니, 이런 오버드라이브의 영향이 크게 나타나는거죠.)

  1. 오버드라이브 전압의 영향이 캐리어 이동도의 영향보다 크게 작용하여 셀의 지연 시간이 감소, temperature inversion 현상이 나타납니다.

또,

  • Long channel에서 Vth에서 온도는 Vth 값에 약간의 영향을 미치지만, 이것보다는 온도가 증가함에 따라 전자는 많은 운동 에너지를 가지고 충돌하여 mobility 저하를 설명하므로 전류가 증가하지 않고 지연시간이 증가합니다

  • Short channel 에서는 온도가 증가하면 Vth가 크게 감소하고(DIBL effect), 전류가 증가하며 지연시간이 증가됩니다.

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CMOS Transconductor Analysis for Low Temperature Sensitivity Based on ZTC MOSFET Condition, P.Toledo​

참고로, MOSFET Zero-Temperature-Coefficient (ZTC) Effect라고 해서 “오버드라이브 전압 영향과 캐리어 이동도 영향”이 셀의 지연 시간에 서로 상쇄하여 0이 되는 지점이 최소 지연시간이 되는 지점입니다.

ZTC에 대한 내용이 아래 문서에 있으니 참고하시면 좋을 것 같습니다.

https://lume.ufrgs.br/bitstream/handle/10183/140814/000991726.pdf?sequence=1

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